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近日,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司(证券简称:捷佳伟创;证券代码:300724.SZ)在官微表示,其子公司常州捷佳创精密机械有限公司(以下简称:常州捷佳创)国内首全自主研发的电子级硅芯清理洗涤设施成功下线,将于近日部署至某合作客户处。
捷佳伟创表示,该硅芯清理洗涤设施是一款用于硅料端制程的硅芯的腐蚀清理洗涤设施,采用碱洗、酸洗、超声、机能水等工艺,清洗硅芯表面有机物、氧化物和金属离子。该产品可用于高纯光伏硅片与半导体硅片的生产制程,清洗后总表金属≤0.2ppbm。
捷佳伟创是国内领先的从事太阳能电池设备研发、生产、销售的企业,其基本的产品包括湿法设备系列、真空设备系列、智能制造设备系列、晶体硅电池整线解决方案等。其中,湿法设备大多数都用在晶体硅电池片生产的全部过程中对硅片进行绒面腐蚀、抛光刻蚀、去绕镀及清洗处理。捷佳伟创表示,其湿法设备在行业中处于领头羊,大范围的应用于光伏电池片各技术路线以及半导体领域。
据捷佳伟创官微,本次常州捷佳创成功下线的国内首全自主研发的电子级硅芯清理洗涤设施实现了材料升级、工艺升级、内部洁净升级、结构升级、制作升级、装配升级,以及硅芯载体优化等。
具体而言,捷佳伟创与德国Rochling合力开发了耐氧化、耐高温的材料,用于该设备的槽体制作。同时,该设备全设备设置在千级洁净室生产;结合了国外成熟工艺与机能水清洗工艺,清洗能力更强;内部流场采用全新设计,搭配更高效FFU、抽风通道及酸碱隔离装置,内部更洁净;底部采用龙门式Robot设计,运载更稳定,运动部件产生的Particle可更快排出设备外。该设备的槽体及槽内零件多采用折弯制作流程与工艺,减少藏污纳垢;其硅芯载体优化,更稳定的结构、更小的接触面积配合旋转机构使清洗更彻底。
事实上,今年以来,捷佳伟创还有多个自主研发的产品成功下线日,捷佳伟创官微表示,其自主研制的碳化硅高温热处理工艺设备成功下线,通过预验收后,顺利发往国内半导体IDM某头部企业。捷佳伟创称,该设备能大大降低碳化硅晶体中的微观应力,消除组织缺陷并降低界面态密度,提高载流子迁移率及寿命。捷佳伟创表示,该设备的首次发货,标志着捷佳伟创在第三代半导体装备上取得重大突破。
具体而言,在TOPCon路线中,捷佳伟创布局了领先的PE-poly技术路线,其产品的效率和良率不断的提高;在HJT路线中,捷佳伟创的板式PECVD的射频(RF)微晶P高速率高晶化率沉积工艺取得突破,将逐渐增强其在HJT技术路线上的竞争力;在钙钛矿及钙钛矿叠层路线中,捷佳伟创已具备钙钛矿及钙钛矿叠层MW级量产型整线装备的研发和供应能力,并已向十多家光伏头部企业、行业新兴企业及研究机构提供钙钛矿装备及服务;在半导体领域,捷佳伟创拥有4到12吋槽式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备,能够很好的满足第三代半导体、微机电、后端封装、集成电路IDM及晶圆代工厂所需的湿法工艺需求。
此前7月,捷佳伟创发布了《向不特定对象发行可转换公司债券预案》。据捷佳伟创于9月8日披露的可转债募集说明书修订稿,捷佳伟创本次拟募集资金总额不超过96100万元。其中,捷佳伟创拟使用募集资金68629.20万元建设“钙钛矿及钙钛矿叠层设备产业化”项目(以下简称:钙钛矿项目),并使用募集资金27470.80万元补充流动资金。
据募集说明书,常州捷佳创为钙钛矿项目的实施主体,该项目的建设周期拟定为2.5年,于第3年建设完成。该项目第3年的达产率为35%,第4年的达产率为65%,第5年完全达产。完全达产后,捷佳伟创将新增磁控溅射镀膜设备(PVD)年产能160台、反应式等离子镀膜设备(RPD)年产能119台、真空蒸镀设备(MAR)年产能60台。
捷佳伟创称,其原有产能主要为以TOPCon为主流技术路线的电池生产设备。本次募投项目的实施,可以加快捷佳伟创推进高效钙钛矿及钙钛矿叠层电池核心设备技术的成熟和规模化生产,提升其新型电池工艺研发能力,有助于捷佳伟创提升在高效新型太阳能电池设备,尤其在钙钛矿和钙钛矿叠层电池设备领域的竞争力。
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