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当时方位:成都汉普升科技有限公司干法刻蚀体系成都真空厂家 surpass大口径等离子刻蚀机
●本设备大多数都用在半导体刻蚀,可以兼容离子束刻蚀和反响离子刻蚀功用,运用气态化学刻蚀剂与资料发生反响来进行刻蚀,并构成可从衬底上移除的挥发性副产品,经过真空体系排出,很合适刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等资料。
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2024-March-16
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