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知识产权联盟秘书处纲正知识产权中心发布了《集成电路专利态势陈述(2018版)》。该陈述别离从集成电路整体、
首要来看集成电路整体的专利态势,据陈述显现,集成电路范畴专利请求量态势逐年增加。2010年-2015年间年均增加率 5.89%,其间 2015 年增速最高,到达 9.28%。
截止到 2017 年 12 月 31 日,集成电路范畴全球揭露专利请求 209.7 万件,授权 144.5 万件。其间,我国大陆请求 46.4 万件,授权 27.8 万件,紧随美国和日本之后,位列第三。
陈述指出,《国家集成电路工业开展推进大纲》等全国及当地各层面战略新兴工业规划的相继出台营建了杰出开展环境,激起企业生机和创造力,带动工业链协同可继续开展,推进我国集成电路范畴跨越式开展。
到现在,全球专利请求总量的冠军是三星,随后别离是 NEC、高通、日立、富士通松下东芝、三菱化学、IBM 和索尼。能够看到,在前十名中有一家韩国企业、两家美国企业和七家日本企业。
而在我国大陆专利请求总量排名中,排在榜首和第二位的别离是中兴通讯和华为。随后别离是三星、国家电网、高通、京东方、松下、OPPO、英特尔和台积电。
从 2017 年新揭露的全球专利请求量排名来看,高通和三星仍占有前两位。值得一提的是,排名前十的企业中,有三家我国企业上榜,别离是华为、中兴和京东方,可见我国企业 2017 年也在全球继续许多布局。
而在 2017 年新揭露的我国大陆专利请求量排名中,请求量最大的为中兴通讯,这以后为国家电网、努比亚和华为,与我国大陆请求总量排名差异不大。值得一提的是,OPPO 和小米等我国厂商进入前十,标明近年来在加强专利布局方面正在逐渐追逐。
在集成电路职业专利技能范畴排名(IPC 大组前十)中,请求量较大的范畴会集于集成电路的制作、零器材、数据交换与传输、光刻设备以及存储器。
在我国大陆内地省市专利排名中,广东省集成电路专利请求量达 90790 件,位居全国首位。北京、江苏、上海和浙江紧随这以后,别离以52067件、35336件、31298件、24493件专利请求量位居第二、三、四、五位。
整体来看,全球集成电路职业专利态势出现五个特色:一是全球范围内集成电路职业的专利请求量现阶段趋于安稳;二是在请求人和请求地域两个维度出现集合的特色;三是请求人以企业为主;四是 2017 年,集成电路范畴专利揭露量仍然较大;五是我国信息技能请求总量中占比较高的多为经济发达地区。
在 DRAM 范畴,截止到 2017 年 12 月 31 日,全球揭露专利请求 14 万余件,全球请求总量排名日本最高,这以后是美国和韩国。其间,我国大陆专利 6 千余件,位居第六位。
DRAM 职业专利请求高峰期在 1995 年到 2006 年。1995 年请求量开端新一轮激增,正是 DDR 技能开端开展的时期。巅峰时期能够到达年请求量 6000 多件,从 2007 年开端专利请求量逐年下降,近两年维持在每年 2000 件左右。
在全球 DRAM 专利请求总量排名中,位居前列的首要请求人有:三星、海力士、美光和日立。值得注意的是,这与 DRAM 内存市场占有率也相匹配。
而在我国大陆 DRAM 专利请求总量排名中,位居前列的企业首要有:海力士、三星、NEC 和IBM等。
整体来看,DRAM 范畴专利态势出现三个特色:一是 DRAM 范畴技能开展较为老练,技能研制投入有所削减;二是 DRAM 研制重心在于 DRAM 操作和规划方面;三是 DRAM 范畴知识产权效果巨大。
在 FPGA 范畴,截止到 2017 年 12 月 31 日,全球揭露专利请求 8 万余件,全球请求总量排名我国大陆最高,一共请求专利 2 万余件,这以后是美国和日本。
FPGA 范畴全球专利请求阅历了三个阶段,榜首个阶段是 1989 年到 2000 年,处于萌芽期,请求量较少,第二阶段是 2001 年到 2012 年,是 FPGA 工业的快速开展期,年请求量直线 年,上升趋势趋于安稳,年请求量小幅上升。
在全球 FPGA 专利请求总量排名中,位居前三的企业为ALTERA赛灵思和 L attice。值得一提的是,在前十的排名中,有两家我国企业也入围了,别离是位居第四和第七的我国电网和中兴。
而在我国大陆 FPGA 专利请求总量排名中,首要的请求人为国家电网、中兴通讯和华为等企业及北京航空航天大学、哈尔滨工业大学、浙江大学和大学等高校。
陈述指出,FPGA 范畴专利首要会集在 H03K19/177和 H03K19/173矩阵式摆放的逻辑电路,别的,因为 FPGA 中许多触及硬件电路编程言语的,还有适当一部分专利聚集在计算机辅助规划、电路测验上。
整体来看,FPGA 范畴专利态势出现四个特色:一是FPGA范畴技能开展较为老练,上升趋势趋于安稳;二是全球范围内,我国、美国和日本请求量坐落前列;三是 FPGA 范畴专利持有者相对比较会集;四是 FPGA 范畴国内首要研制主体仍是高校。
在光刻设备范畴,截止到 2017 年 12 月 31 日,全球揭露专利请求 8.2 万件,全球请求总量排名美国最高,这以后是日本和韩国。其间,我国大陆专利 1 万件,位居第四位。
在全球光刻设备专利请求总量排名中,ASML 位居榜首,紧随这以后的是卡尔蔡司、海力士和三星。
而在我国大陆光刻设备专利请求总量排名中,除 ASML 仍然位居榜首外,其他位居前十的根本都是我国企业,别离有中芯国际、上海微电子配备有限公司、京东方、上海华虹宏力、上海华力微电子,还有中科院光电研究所和中科院微电子所两家科研院所。
陈述指出,光刻范畴专利排名较高的类别聚集在 G03F7图纹面、H01L21专门适用于制作和处理半导体或固体器材或其部件的办法或设备上,请求量显着高出其他分类。
整体来看,光刻设备范畴专利态势出现四个特色:一是光刻设备技能近几年请求量相对安稳;二是全球范围内日本和美国请求量坐落全球前列,韩国第三;三是光刻设备范畴我国首要的请求人中,首要为企业;四是光刻设备首要技能会集在 G03F7、H01L21两个 IPC 类别上,阐明曝光资料及设备、半导体设备制作技能在光刻设备范畴占比较高。
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